El rotario Objetivo de pulverización de niobio está equipado con una excelente fuente de pulverización catódica que forma una película delgada funcional sobre un sustrato mediante pulverización catódica con magnetrón, revestimiento iónico de arco múltiple u otros tipos de sistemas de recubrimiento en condiciones de proceso apropiadas. Debido a su alto rendimiento, se utiliza ampliamente en circuitos integrados de semiconductores, discos ópticos, pantallas planas y revestimientos superficiales de piezas de trabajo.
- Proceso de moldeo: pulverización
- Densidad: > 8,5 gramos/cm3
- Contenido de impurezas (unidad: PPM, contenido total de impurezas ≤ 1000 ppm)
Como materia prima principal utilizada en el recubrimiento, las características inherentes del objetivo, como su forma, pureza, densidad, porosidad, tamaño de grano y calidad de unión, tienen un impacto significativo tanto en la calidad de la película como en la velocidad de pulverización. Los objetivos de calidad superior no solo garantizan una calidad de película de primer nivel, sino que también contribuyen a extender la vida útil de los productos Low-e. Más importante aún, pueden reducir los costos de producción, mejorar la eficiencia de la producción y generar beneficios económicos sustanciales para la industria del vidrio con recubrimiento por pulverización catódica.
Una pureza insuficiente en el objetivo de pulverización catódica puede provocar que partículas de impureza se adhieran al sustrato durante el proceso de pulverización catódica, provocando inestabilidad y delaminación en ciertas capas de la película. Cuanto mayor sea la pureza del objetivo, mejor será el rendimiento de la película preparada.
